Il Ministero dei beni e delle attività culturali e del turismo-Direzione generale per il paesaggio, le belle arti, l’architettura e l’arte contemporanee/Servizio architettura e arte contemporanee (Mibac-Pabaac), il ministero degli Affari esteri-Direzione generale per la promozione del sistema paese (Mae-Dgsp), l’Istituto italiano di cultura, sezione di Shanghai (IIC Shanghai) e l’istituto Garuzzo per le arti visive – Igav, promuovono la seconda edizione del premio Shanghai-Residenze artistiche per giovani artisti italiani e cinesi emergenti. Il premio è un concorso rivolto a giovani italiani e cinesi tra i 18 e i 35 anni di età che operano nell’ambito delle arti figurative. Sarà attribuito, attraverso una selezione concorsuale, a tre giovani artisti italiani (prima fase) e a tre giovani artisti cinesi (seconda fase), nell’intento di promuovere e favorire la ricerca artistica e culturale tra i due paesi, individuando le esperienze più promettenti. Il bando di partecipazione alla prima fase, riservata agli artisti italiani, sarà consultabile da domani primo agosto all’indirizzo www.premioshanghai.webnode.it e sui siti web delle Istituzioni promotrici (www.beniculturali.it, www.pabaac.beniculturali.it, www.iicshanghai.esteri.it, www.igav-art.org). Il premio Shanghai si propone di offrire a giovani artisti italiani e cinesi reali opportunità di crescita artistica e professionale offrendo loro due mesi di residenza artistica rispettivamente in Cina, a Shanghai, e in una città in Italia, dove avranno modo di conoscere ed integrarsi con la cultura locale, di essere seguiti da un tutor e di realizzare ed esporre il loro lavoro.


